報道稱，日本 Rapidus 公司正在力爭量產最先進半導體，ASML 將為 Rapidus 提供工廠建設和維護檢查等協(xié)助，到 2028 年前后將日本國內人員增加 40%。

　　ASML 在承擔半導體制造主要工序的光刻設備領域居世界首位，是全球唯一能生產極紫外(EUV)光刻機的制造商。EUV 是量產 5～7nm 尖端半導體所需設備，因此對于日本本土半導體來說，ASML 的支持至關重要。

　　ASML 將在北海道千歲市周邊建設技術支持基地，由約 50 名技術人員在 Rapidus 建設的半導體試生產線上安裝 EUV 光刻設備，為工廠建設和維護檢查提供協(xié)助。

　　報道還稱，美國應用材料公司也將在今后數(shù)年內在日本將人員增加 60%。美國科林研發(fā)公司(LamResearch)考慮在北海道新建設施。